ALD常用前驅體簡介：

       ALD常用前驅體在半導體、顯示、納米、新能源、催化等高校科研領域的研究熱度頗高。針對客戶實際需求，我司可提供研發級的先進ALD 常用前驅體，產品純度最高可達6.5N，并支持為客戶定制合成；產品可用于制備學術研究和企業研發用的金屬/氧化物/氮化物/碳化物/硅化物/硫化物薄膜。 同時，我們也可以提供鋼瓶的定制、清洗、灌裝等服務及ICP-MS等先進的材料表征服務，能夠對產品和鋼瓶進行ppb級別的純度分析。配備氦質譜檢漏儀，保證所有出貨的鋼瓶氣密性良好。