4-甲酯基苯硼酸

產品編號： 1047847 純度：98% CAS：99768-12-4

英文名稱：Methyl 4-boronobenzoate

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檢測信息

COA SDS 譜圖

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產品名稱：Methyl 4-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)benzoate 純度：98%

產品編號：1023549

CAS號：171364-80-0

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現貨

基本信息
屬性
計算化學
參考文獻
安全信息

產品編號

1047847

CAS 號

99768-12-4

英文名稱

Methyl 4-boronobenzoate

中文名稱

4-甲酯基苯硼酸

英文別稱

4-Methoxycarbonylbenzeneboronic acid

中文別稱

Smiles Code

O=C(OC)C1=CC=C(C=C1)B(O)O

MDL 號

MFCD01632203

分子式

C8H9BO4

分子量

179.97

存儲條件

2-8°C

純度

98%

網頁展示純度為入庫指導純度值，各批次間存在一定差異，實際純度以收貨為準

熔點

197-200°C

沸點

345.8°C at 760 mmHg

閃點

旋光

描述

它是一種試劑，用于串聯型 Pd(II) 催化的氧化 Heck 反應和分子內 CH 酰胺化序列，銅介導的芳基硼酸與氟代烷基碘的無配體需氧氟烷基化反應，芳基硼酸的一鍋同位硝化，銅催化硝化和環縮合反應，然后是鈀-膦催化的 Suzuki-Miyaura 偶聯。它被用作試劑中的試劑，用于通過芳基鹵化物與芳基硼酸、色酮及其緩激肽 B1 拮抗活性的鎳催化 Suzuki-Miyaura 交叉偶聯反應制備聯芳基化合物，Pt 納米粒子在光活性金屬有機框架上產生高效氫通過協同光激發和電子注入以及基于水楊酸鹽的噻吩基苯甲酸作為大腸桿菌蛋氨酸氨基肽酶抑制劑的進化。

展開

TPSA

66.76

LogP

-0.847

H_Acceptors

H_Donors

Rotatable_Bonds

[1]. Cheng Wang, et al. Pt nanoparticles@photoactive metal-organic frameworks: efficient hydrogen evolution via synergistic photoexcitation and electron injection. J Am Chem Soc. 2012 May 2;134(17):7211-4.

[2]. Daohong Yu, et al. Selective palladium-catalyzed C-F activation/carbon-carbon bond formation of polyfluoroaryl oxazolines. J Org Chem. 2012 Feb 17;77(4):1798-804.

[3]. Kiyofumi Inamoto, et al. Tandem-type Pd(II)-catalyzed oxidative Heck reaction/intramolecular C-H amidation sequence: a novel route to 4-aryl-2-quinolinones. Chem Commun (Camb). 2012 May 7;48(36):4332-4.

[4]. Qingqing Qi, et al. Copper-mediated aerobic fluoroalkylation of arylboronic acids with fluoroalkyl iodides at room temperature. J Am Chem Soc. 2012 Apr 18;134(15):6548-51.

[5]. Srimanta Manna, et al. ipso-Nitration of arylboronic acids with bismuth nitrate and perdisulfate. Org Lett. 2012 Apr 6;14(7):1736-9.

警示圖

警示詞

Warning

危險申明

H302-H315-H319-H335

警告申明

P261-P264-P270-P271-P280-P302+P352-P304+P340-P305+P351+P338-P330-P362+P364-P403+P233-P405-P501

GHS 編碼

GHS07

4-甲酯基苯硼酸的合成線路

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參考文獻： ACTELION PHARMACEUTICALS LTD. Patent: US2008/76762 A1, 2008 Location in patent: Page/Page column 44-45 US 20080076762 A1
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參考文獻： Rosen, Brad M. Wilson, Daniela A. Wilson, Christopher J. Peterca, Mihai Won, Betty C. Huang, Chenghong Lipski, Linda R. Zeng, Xiangbing Ungar, Goran Heiney, Paul A. Percec, Virgil Journal of the American Chemical Society, 2009 , vol. 131, # 47 p. 17500 - 17521
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參考文獻： Wang, Xiao-Jun Sun, Xiufeng Zhang, Li Xu, Yibo Krishnamurthy, Dhileepkumar Senanayake, Chris H. Organic Letters, 2006 , vol. 8, # 2 p. 305 - 307
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參考文獻： US6096780 A1, US 6096780 A
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參考文獻： US6307056 B1, US 6307056 B1